核心规格参数
· 几何抽速:20,000 L/min
· ji限压力:0.5 Pa
· 电源电压:3相 AC200~220V 或 380~480V
· 耗水量:4-8 L/min
· 重量:340 kg
· 外形尺寸 (宽×高×长):400 mm × 780 mm × 930 mm
主要应用与特点
· 适用场景:非常适合大尺寸晶圆和 FPD 基板使用,能够经得起各种严苛工艺的考验。
· 工艺应用:广泛应用于半导体刻蚀工艺、低压化学气相沉积(多晶硅制备)等。
· 无油清洁:作为干式真空泵,它可用作一般无油清洁真空系统的前级泵,防止油污染,并能将工艺中产生的微粒排出泵外。
· 防腐与冷却:针对可能产生腐蚀性气体或热敏性物质的工艺,泵体采用了防腐材质或涂层,并具备的冷却系统以维持合适的温度。
关于采购与维修
· 价格:该设备属于大型工业设备,不同渠道的报价差异较大。部分平台参考报价为 100,000.00 元/台,但多数情况为面议,具体价格会因购买数量、规格及线下协议等因素变化。
· 售后维修:国内(如福建厦门等地)有提供该型号真空泵维修、保养的厂家,通常提供本地化维修服务、技术咨询以及一定期限的延保服务。








